


۱ ۱ etil heksanol ۱ köstebek otokle
NMUD7 esas olarak çiçek formülasyonunun delinmesinde kullanılır. Bu malzeme, köpük özelliklerine sahip çok alçak bir yüzey aktif maddedir, bu nedenle malzemelerde temizlenebilir

Lorilel miristil alkol 2 köstebek otokle
NLA2 kimya endüstrisinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Bu malzeme, lorilel sülfat grubuna ait anyonik yüzey aktif cisimlerinin üretiminde kullanılan malzemelerden biridir.

ISO Tertrchoce 10 mol otokemal
NTDA10, çok güçlü emülsiyon ve distribütör özellikleri nedeniyle ev veya endüstriyel temizleyici formülasyonların bir parçası olabilir. Bu materyal için hazırlanırken

Nonel olmayan fenol;
40 mol etilen oksit (NPE-40) ile 40, emülsiyon ve nemlendirici özellikleri ile bilinen iyonik olmayan bir yüzey aktif maddedir. Genellikle uygulamalarda